技术编号：7220673
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及一种用于控制在具有低或者超低的介电常数(低k或 者超低k)的介电层中的双轴应力水平的方法和一种能够制造这样的介电 层和包含这样的介电层的电子器件的工具设计。更具体而言，本发明涉及 一种用于制造低应力超低k膜的方法以及通过这样的方法形成的电子结 构，所述低应力超低k膜作为在超大规模集成("ULSI")后段制程 ("BEOL")布线结构中的级内或者级间电介质。背景技术近些年来在ULSI电路中利用的电子器件的尺寸的持续缩小已经导致 提高了 BEOL...
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