技术编号：7221307
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，特别涉及用于通过使用等离 子体将离子注入到固体试样的表面上的等离子体掺杂装置和等离子体掺杂 方法。背景技术在制造诸如晶体管的半导体的过程中，当形成PN结时为了导入P型杂 质或N型杂质，提出了称为等离子体掺杂的技术。这用于当将半导体衬底掺入杂质时，将半导体衬底暴露在包含电活性杂 质的等离子体中，以将杂质导入到具有等离子能量的半导体衬底的表面部分 内。然而，提到用于半导体需要的杂质时，需要进行净化或定量控制到杂质 的元素和分子水平，以明确地给出其诸...
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