技术编号：7221841
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明有关于使用投影光学系统投影既定图案的像的曝光装置及使用 此曝光装置的曝光方法，适用于例如用以在制造半导体元件及液晶显示器等 各种元件的光刻工艺中，将光掩膜图案转印至基板上所使用者。背景技术例如于半导体元件的工艺之一的光刻工艺中，为了将形成于作为光掩膜 的标线片(或光掩膜等)的图案转印曝光至作为基板的涂有光刻胶的晶片(或 玻璃板等)上，使用步进器等一次曝光型的投影曝光装置、及扫描步进器等 扫描曝光型的投影曝光装置等的曝光装置。这些曝光装置中，进行标线片...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。