技术编号：7223556
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术灰化是等离子体传播的剥离工艺，通过该工艺，光刻胶、有机上覆层 和/或聚合物残余物在暴露于等离子体时被从衬底剥离或去除。通常，在进 行了其中光刻胶材料被用作用于将图案刻蚀到衬底中的光掩模的刻蚀工艺之后，进行灰化。灰化工艺也被用于去除诸如抗反射涂层(ARC)之类的 其它有机层(如果有的话)。此外，灰化工艺可以用于去除错位的光刻胶 图案("重新使用晶片")并且可以在剥离(lift-o的工艺中进行。已知的是， 在灰化之前进行的工艺步骤可能使得光刻胶和ARC...
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