技术编号:7223739
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。技术背景以往,半导体器件具有各种绝缘膜。在这些绝缘膜中,有IC的层间 绝缘膜(例如,低介电常数膜(以下称为"Low-k膜")、形成在布线之 间的布线材料的阻挡层绝缘膜、和高介电常数栅极绝缘膜(以下称为 "High-k膜")等。另夕卜,关于绝缘膜的材料,使用SiN、 SiON、 SiOCH、 SiOCNH、 SiCH、 SiCNH、 SiOCF、 SiCF等。Low-k膜要求具有低介电常数和高机械强度。用于实现低介电常数的 一种方法是,对Low-...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。