技术编号：7224547
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于干式化学处理选自包括硅、陶瓷、玻璃和石英 玻璃的组的衬底的方法，其中所述衬底在加热的反应室内用包含氯化氢 的气体作为蚀刻剂来处理，还涉及可以以这种方法制备的衬底。本发明 还涉及上述方法的用途。背景技术现有技术中已知很多用于表面处理和晶片净化的蚀刻方法，这些方 法基于利用不同化学品的湿式和干式化学反应。在这类衬底的表面处理和净化中所用的方法可以分为下列应用-除去表面区域，以消除晶片的晶体损伤。 一个实例是太阳能电池预处 理中所谓的损伤蚀刻(...
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