漏极和/或源极上带改进的植入物的结型场效应晶体管的制作方法技术资料下载

技术编号:7225026

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本发明一般地涉及场效应晶体管(FET),更具体地说,是涉及结型场 效应晶体管(JFET)。 背景技术结型场效应晶体管(JFET)有着许多的应用,如用于电子开关和压控电 阻中。通常的JFET的结构如图l所示。这种P型JFET包括一N型底栅层IO, 凹入N型层10的P+源区14和P+漏区16; —P型层18,其凹入源区和漏区之 间的N层的表面中;以及一N型顶栅层20,其凹入源区与漏区之间的P型层的 表面中。源区和漏区上设有接点,栅极层则设有装置的源极(S)、漏...
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