技术编号:7225571
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,尤其涉及一种使用于半导体装置等 制法中形成微细图案步骤的。背景技术在集成电路工艺中,光刻工艺(lithographic process)早已成为一不可或缺 的技术。藉由光刻工艺,半导体制造者才能够顺利将电子电路布局图案精 确且清晰地转移至半导体芯片上。光刻工艺主要是先将设计的图案,诸如 电路图案或者是注入区域布局图案等,形成于一个或多个光掩模上,然后 再藉由曝光将光掩模上的图案利用步进及扫瞄机台(stepper & scanner)...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。