技术编号：7225926
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种浸润光刻系统及用于图案化半导体集成电路的浸润光刻方法。背景技术 浸润光刻通常借助填充于投影镜头与光阻层之间的去离子水而将涂布的光阻曝光并形成图案，以获得较高的解析度。现今的浸润光刻工艺可以包括很多工艺步骤，例如光阻涂布、预烤、浸润曝光、曝光后烘烤、显影、以及硬烤。然而，现今浸润光刻工艺经历各种来自晶圆与光刻系统的元件的污染与微粒，导致图案缺陷、图案失真(distortion)以及图案损失。所以有效地监控浸润光刻工艺中的微粒也是一大挑战。发明内...
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