金属连接器件的形成方法技术资料下载

技术编号:7227978

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本发明涉及半导体器件制作领域,尤其涉及。 背景技术随着半导体器件尺寸越来越小,电路密度越来越大,芯片上输入/输出(1/0)接口数量也越来越多,金属连接器件(金属焊盘或金属布线)之间的距离会 越来越小,为了提高电路性能,减小漏电流显得格外重要,为了获得更为优良电路性能,漏电流要求也由原来的皮安培数量级(pA, 1E-12)提高至飞安 数量级(fA, 1E-15),因此,以往的皮安培(pA)数量级的漏电流标准已经 不能满足现在器件的需要,在半导体工业界急需一种...
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