技术编号:7228276
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于服务于超大功率半导体列阵选择同相模运行的稳定性控制的外腔形变补偿量获取技术,涉及超大功率半导体列阵外腔锁相,涉及通过偏转适配角度的外腔镜使列阵选择同相模震荡后,对残余热效应等引起外腔形变的测量,涉及补偿列阵外腔形变补偿量获取,涉及避免外腔形变导致非同相模起振。 背景技术 半导体列阵量子效率高,输出波长范围涵盖570nm至1600nm,工作寿命可达数百万小时,叠层列阵可提供超高功率激光输出,在诸如工业、医学等很多领域具有非常广阔和良好的应用前...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。