技术编号:7229663
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子注入、等离子体刻蚀及增强沉积等领域中等离子体特性诊断的,。背景技术 在等离子体加工技术(如等离子体源离子注入一Plasma SourceIon Implantation、等离子增强沉积一P1asma Enhanced Deposition等)领域,随时间变化的等离子体动态鞘层是加工工艺中发生的重要物理过程之一。鞘层特点对加工质量及效率有明显的影响。实际生产或实验中,除了对鞘层进行数值模拟等理论分析外,在重要场合更需要通过某种手段对等离子体特性...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。