技术编号:7230761
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种。背景技术 光刻设备是一种把预期图案应用到衬底,通常是衬底目标部分的机器。光刻设备可以用于制作例如集成电路(IC)。在这种示例中,可以使用备选地称为掩模或分划板的构图装置,以产生将在IC单个层上形成的电路图案。这个图案可以被传递到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包含部分、一个或多个管芯)。该图案的传递通常是通过成像到设于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常,单个衬底会包括连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括步进机(step...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。