技术编号:7231003
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于在衬底处理腔室中保持衬底的衬底支架。背景技术 在诸如半导体和显示器的衬底处理中,静电吸盘用于在衬底处理腔室中保持衬底。典型的静电吸盘包括通过诸如陶瓷或聚合物的绝缘体覆盖的电极。当对电极充电时,在电极和衬底中中的静电电荷保持在吸盘中的衬底。通常,通过在衬底的背部提供气体控制衬底的温度,以增强在衬底和吸盘的表面之间的整个微间隙的热交换速率。可以通过底座支撑该静电吸盘,其中该底座具有用于在其中流过流体从而冷却或加热吸盘的通道。当将衬底牢固地保持...
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