技术编号:7231716
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置,更详细地涉 及一种在l个工艺装备中,可进行淋洗、吸取及干燥工艺,在涂敷或剥离 基板,进行清洗工艺时,可提高时间和空间的效率性的进行淋洗、吸取及 干燥工艺的工艺装置。背景技术一般在半导体制造工艺中,为形成微细图案,使用照相蚀刻工艺。照相蚀刻工艺可由,形成图案层的步骤;在被蚀刻层上涂敷如光致抗蚀膜的 感光膜的步骤;使该感光膜对光进行部分曝光的步骤;通过显影已部分曝 光的感光膜形成感光膜图案的步骤;通过将该感光膜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。