技术编号：7234461
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及晶体管的制造方法的，特别涉及一种新型的接触窗层 的对准标记及其形成方法。背景技术普通的接触窗层对准标记，是做在切割道的有源区上，利用接触窗层的光 刻和蚀刻，在金属前介质层上产生沟槽形成对准标记。晶面金属层光刻对准时， 光刻对准机台通过获取接触窗层对准标记的光学信号来达到对准的目的。如图1 所示，公知技术中接触窗层对准标记的形成是在切割道区域的单晶硅衬底11上的金属前介质层12上，利用光罩来光刻和蚀刻场金属前介质层形成沟槽，得到 接触窗层对准标记。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。