技术编号:7236890
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种监测方法及系统,尤其是一种监测干法刻蚀过程的方法 及系统。背景技术在薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)的制造过程中, 有些流程需要进行干法刻蚀,在玻璃基板上形成所需的膜层图案。刻蚀工 艺通常在等离子体腔室内进行,将适当量的刻蚀气体通入到等离子体腔室 中,在高频波的激发下形成等离子体,对玻璃基板上没有被光刻胶保护的 部分进4于刻蚀。刻蚀过程一般会伴随有200nm-800nm波段的发射光谱,该发射光谱从气 相反应物...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。