技术编号:7237197
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对基板实施规定处理的基板处理装置的控制装置、控 制方法和存储有控制程序的存储介质,更详细地说,涉及同一基板处 理装置的前馈控制的最优化。背景技术在连续对多块基板实施期望的处理时,由于在处理中生成的反应 生成物逐渐附着在基板处理装置的内壁上等原因,基板处理装置内的 气氛逐渐变化。为了与该变化对应而始终高精度地进行基板处理,以 往已提出了前馈控制和反馈控制(例如,参照专利文献l)。在反馈控制中,例如在对基板进行蚀刻处理的情况下,用测定器 测定该处理前...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。