技术编号:7238066
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对配设在硅晶片等被处理基板上的聚硅氮烷膜进行处 理的方法,特别是涉及可以适合在半导体处理中使用的方法。这里,所谓半导体处理是指通过按照规定的图形,在晶片或LCD (液晶显示 器Liquid Crystal Display)那样的FPD (平板显示器Flat Panel Display)用的玻璃基板等的被处理基板上形成半导体层,绝缘层,导电层等, 在该被处理基板上制造半导体器件或包含半导体器件连接的线路,电 极等结构物而进行的各种处理。背景技术在半...
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