技术编号:7238067
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在半导体晶片等被处理基板上形成硅氮化膜的半导体 处理用的成膜装置及其使用方法。背景技术所谓半导体处理是指通过在晶片或LCD (Liquid Crystal Display 液晶显示器)那样的FPD (Flat Panel Display平板显示器)用的玻璃 基板等被处理基板上,按规定的图形形成半导体层、绝缘层、导电层 等,为了在该被处理基板上制造半导体器件或包含与半导体器件连接 的布线、电极等的结构物,而实施的各种处理。在半导体器件的制造工序中,...
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