技术编号：7239835
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体晶片等的被处理体的处理装置和载置台构造。背景技术通常，在制造半导体集成电路时，对半导体晶片等的被处理体反复进行成膜处理、蚀刻处理、热处理、改性处理、结晶化处理等的各种单片处理，形成所希望的集成电路。在进行如上所述的各种处理的情况下，相应于该处理的种类，需要将必要的处理气体，例如在成膜处理的情况下为成膜气体或者卤素气体、在改性处理的情况下为臭氧气体等、在结晶化处理的情况下为N2气体等的非活泼性气体或O2气体等分别导入处理容器内。以对半导体晶片...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。