技术编号：7244579
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种晶片快速热处理机台，用以实现不同类型的晶片经相同快速热处理工艺后，晶片的表面实际温度准确升高到晶片快速热处理机台预设的晶片的表面温度值。所述晶片快速热处理机台，包括机台主体、反应室、晶片支撑架、温度探测器，所述晶片快速热处理机台还包括晶片样片承载装置以及晶片样片；所述晶片样片承载装置，设置于所述反应室内，用于承载所述晶片样片；所述温度探测器，用于探测所述晶片样片的表面温度。专利说明一种晶片快速热处理机台[0001]本发明涉及半导体工艺，尤其...
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