技术编号:7244643
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种硬掩模间隙壁结构,包含有一第一间隙壁,设于一元件层上,且该第一间隙壁定义出多个孔洞图案,以及介于该多个孔洞图案之间的至少一星芒状孔洞图案;以及一第二间隙壁,设于该第一间隙壁上,并嵌入该星芒状孔洞图案中,借以使该星芒状孔洞图案轮廓圆滑化。专利说明 [0001]本发明涉及半导体,特别是涉及一种自对准接触洞图案化方法(self-aligned contact hole patterning),以及一种用于自对准接触洞图案化方法的硬掩模间隙壁结构(...
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