技术编号：7244853
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种等离子体处理装置，包括腔体，腔体内限定有反应腔室；介质窗，介质窗设置为反应腔室的顶板；晶圆承载装置，其设置于反应腔室的底部且与介质窗相对；射频线圈，射频线圈放置于介质窗上方，用于在反应腔室内生成等离子体；以及加热器，加热器构造成对介质窗进行均匀加热。根据本发明的等离子体处理装置，在不影响等离子体正常起辉的前提下，可以实现介质窗的快速升温，且在加热器的作用下，使介质窗沿径向方向温度分布更加均匀。专利说明等离子体处理装置[0001]本发明涉及等...
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