技术编号:7245503
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,包括在结构材料层上形成硬掩模层;在硬掩模层上形成电子束光刻胶;采用电子束曝光系统,对电子束光刻胶进行曝光,其中通过增加曝光剂量来提高电子束光刻胶的抗刻蚀性;采用显影液对曝光后的电子束光刻胶显影,形成电子束光刻胶图形;以电子束光刻胶图形为掩模,各向异性刻蚀硬掩模层和结构材料层,形成所需的精细线条。依照本发明的,在保证高宽比不变的情况下通过改变工艺条件来提高电子束胶的抗刻蚀性能,防止电子束胶被完全损失,由此提高了线条的精度、改进了最终器件的性...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。