一种具有垂直导电沟道的半导体装置及其制备方法技术资料下载

技术编号:7245913

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本发明公开了一种具有垂直导电沟道和增强耐压能力的半导体装置;本发明的半导体装置,为垂直型结构器件;本发明的半导体装置,具有垂直方向的导电沟道,电子由源极出发,流经水平沟道,并通过垂直深槽侧壁的沟道导通层强制转为垂直方向,通过器件底部的漂移区进入漏极;相对于传统的水平沟道的平面型HEMT器件,本发明的半导体装置不仅有着更为优异的单位面积的电流导通能力,能够有效降低器件的比导通电阻Ron-sp,而且本装置能够充分利用漂移区长度耐压,消除了传统横向器件的二维表面...
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