技术编号:7247921
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,其中该制造FinFET的方法,包括形成半导体鳍片;形成源区和漏区中的一个;形成牺牲侧墙;以牺牲侧墙作为掩模,形成源区和漏区中的另一个;去除牺牲侧墙;以及采用栅堆叠替代牺牲侧墙,该栅堆叠包括栅极导体和栅极电介质,栅极电介质将栅极导体与半导体鳍片隔开。专利说明[0001]本发明涉及半导体技术,更具体地,涉及。背景技术[0002]随着平面型半导体器件的尺寸越来越小,短沟道效应愈加明显。为此,提出了立体型半导体器件如FinFET (鳍片场效应晶体...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。