技术编号：7251333
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种多腔室CVD处理系统，包括多个基片载体，其中，每个基片载体用于支承至少一个基片。多个外壳每个构造成用以形成沉积腔室，该沉积腔室包围多个基片载体中的一个基片载体，以保持用来执行处理步骤的独立化学沉积过程化学性质。运输机构按离散步骤将多个基片载体中的每一个基片载体运输到多个外壳中的每一个外壳，这允许在多个外壳中在预设定时间内执行处理步骤。在一些实施例中，基片载体可以是可转动的。专利说明多腔室CVD处理系统[0001]这里使用的章节标题仅用于行文组织方面的目...
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