技术编号:7251535
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。根据本发明的一实施例,半导体制造设备包括清洗腔室,其实施对基板的清洗工艺;外延腔室,其实施在所述基板上形成外延层的外延工艺;以及搬运腔室,其侧面与所述清洗腔室和所述外延腔室连接,并且具备用于向所述外延腔室搬运已结束所述清洗工艺的所述基板的基板处理器。所述外延工艺可以为对多个基板实施的间歇式工艺。专利说明用于外延工艺的半导体制造设备[0001]本发明涉及一种半导体制造设备,尤其涉及一种用于在基板上形成外延层的外延工艺的半导体制造设备。背景技术[0002]常用...
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