技术编号:7252407
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在衬底表面上沉积膜的方法,其包括表面介导反应,在该反应中经过反应物的吸附和反应的一个或多个循环所述膜进行生长。在一个方面中,该方法的特征在于,在吸附和反应的循环之间,间歇性输送掺杂剂物质到膜。专利说明等离子体活化保形电介质膜沉积 相关申请的交叉引用[0001]根据35U.S.C.§ 120,本申请作为2011年4月11日提交的美国专利申请N0.13/084, 399的部分继续申请要求优先权,美国专利申请N0.13/084, 399主张于2010年4月15...
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