技术编号:7253445
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的目的是提供不易在被抛光材料的表面产生刮痕且提高了修整性的抛光垫。另外,本发明的目的还在于提供使用该抛光垫的半导体器件的制造方法。本发明的抛光垫具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的抛光层,且所述聚氨酯树脂发泡体包含ASKER?D硬度为20-60度且由下式表示的磨耗参数为1-3的聚氨酯树脂磨耗参数={1/(拉伸断裂强度[MPa]×拉伸断裂伸长率[%]/100)}×100。专利说明抛光垫[0001]本发明涉及抛光垫,其可稳定地且以高的抛光效率对透镜...
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