技术编号:7255413
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术在衬底的处理中,例如,在半导体衬底或诸如在平板显示器制造中使用的玻璃面板,通常采用等离子体。例如,作为衬底处理的一部分(等离子体蚀刻,化学气相沉积,等离子体增强化学气相沉积,物理气相沉积,等),衬底被分成多个管芯或矩形区域,该多个管芯或矩形区域中的每个将成为集成电路。然后,该衬底在一系列的步骤中处理,其中,选择性地去除(蚀刻)和添加(沉积)材料,以形成其上的电气元件。在示例性的等离子体工艺中,在蚀刻之前,衬底涂有硬化的感光乳液(S卩,如光致抗蚀剂掩...
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