技术编号:7259211
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。,静电吸盘及等离子体处理装置制造方法本发明公开了一种,包括制造静电吸盘的主体部和基座;以及将所述主体部和所述基座连接为一体;其中制造静电吸盘的主体部的步骤包括形成嵌有薄膜电极的陶瓷基板;图形化所述陶瓷基板的上表面;以及在所述陶瓷基板的表面沉积抗等离子侵蚀的保护层以形成所述静电吸盘的主体部。本发明能够有效提高静电吸盘的耐等离子体侵蚀性能、结构稳定性及使用寿命。专利说明,静电吸盘及等离子体处理装置 [0001]本发明涉及半导体制造领域,特别涉及一种,静电...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。