技术编号：7261198
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种，所述双重图形结构的形成方法包括提供待刻蚀层；在所述待刻蚀层上形成应力层；在所述应力层上形成具有若干开口的牺牲层，所述开口暴露出部分应力层的表面；在所述应力层和牺牲层表面形成侧墙材料层；在所述侧墙材料层表面形成填充满所述开口的介质层；以所述牺牲层为停止层，对所述介质层进行平坦化，暴露出牺牲层的顶部表面；去除所述牺牲层和介质层；刻蚀所述应力层，在所述应力层内形成贯穿所述应力层的凹槽。采用上述方法形成的双重图形结构不会发生形变。专利说明 [0001]...
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