技术编号：7263116
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例一般涉及用于清洁喷头的方法与设备，所述喷头用于化学气相沉积工艺中。相关技术的描述现发现III-V族薄膜对于各种半导体器件的发展与制造更加重要，所述半导体器·件诸如短波长发光二极管(LED)、激光二极管(LD)以及包含高功率、高频、高温晶体管与集成电路的电子装置。举例而言，短波长(例如蓝光/绿光至紫外光)LED是利用第III族氮化物半导性材料的氮化镓而制成的。已知利用GaN所制成的短波长LED能提供比利用非氮化物半导性材料(诸如II-VI族材料...
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