技术编号:7263448
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种,包括提供待刻蚀层;在所述待刻蚀层上由下至上依次形成富碳层和有机介质层;在所述有机介质层上形成图形化的光刻胶;以所述图形化的光刻胶为掩膜,刻蚀所述有机介质层和所述富碳层,形成图形化的有机介质层和图形化的富碳层,所述图形化的有机介质层和图形化的富碳层中形成了窗口,所述窗口侧壁和图形化的有机介质层上表面附着有残渣;去除所述残渣;去除所述残渣后,通过所述窗口刻蚀所述待刻蚀层,形成图形化的待刻蚀层。本发明提供的得到的图形化的待刻蚀层形貌良好,且尺寸精确。专利说...
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