技术编号:7292653
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻机掩模台系统,该系统主要应用于半导体光刻机中,属于半导体制造装备领域。背景技术在集成电路芯片的生产过程中,芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一,该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨率和曝光效率极大的影响着集成电路芯片的特征线宽(分辨率)和生产率。而作为光刻机关键系统的掩模台系统的运动精度和工作效率,又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。步进扫描投影光刻机基本原理是来自光源的深紫外光透过...
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