技术编号:7433212
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种静电吸盘,用于以下用途在液晶面板制造中所使用的基板层压装置、离子掺杂装置等中具备该静电吸盘来吸附/保持玻璃基板;或者在由半导体制造工艺所使用的蚀刻处理、化学气相沉积(CVD)进行的薄膜形成等的等离子体处理装置、电子曝光装置、离子描画装置、离子注入装置等中具备该静电吸盘来吸附/保持半导体晶片。背景技术 静电吸盘具有在如上述那样的各种半导体制造装置、液晶面板制造装置等的处理室内静电吸附、保持硅晶片、玻璃基板等的功能。在该静电吸盘中,由于接触地保持...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。