技术编号：7490504
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻投影设备，它包括辐射系统，用于提供辐射投影光束；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；用于移动所述支撑结构和所述基底台的直线马达。背景技术 这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的...
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