技术编号:7490505
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻投影设备,它包括辐射系统,用于提供辐射投影光束;用于支撑构图装置的支撑结构,所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统;洛伦兹致动器,它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置。背景技术 这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置,其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致;本文中也使用术语“光阀”。一般地,所述图案与在目标...
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