技术编号:7506041
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种双向脉冲可分别控制的双极性脉冲电源,涉及到电学领域的脉宽调制的脉冲电源,归为H03K小类。目前国内磁控溅射生产线使用的靶电源多数采用可控硅控制的直流电源,如专利号为2239438直流磁控溅射电源。这种电源的缺点是1.功率因数和效率较低(<50%)能耗大。2.由于直流单向性和单个脉冲储存能量大,容易打弧。3.不适用于反应溅射,不能用于制备绝缘膜。过去为了制备SiO2等绝缘膜,只能采用射频溅射。但射频溅射设备较复杂,价格昂贵,功率利用率低,沉积速率也较低,...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。