技术编号:7522886
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及声表面波器件的前工序工艺制作,特别涉及一种基片级的声表面波器件频率修正方法。背景技术在制作声表面波器件时,如滤波器、谐振器等各种部件,必须使声表面波器件达到需要的频率特性。但是,声表面波器件的频率特性由于各个压电基片之间物理性质的变化以及在形成IDT中的制造精密度差而偏离所设计的特性。所以声表器件的频率主要由金属膜厚度、金属指条宽度和基片材料声速等决定。声表面波器件前工序的工艺目的,是在基片表面上制作形成所需要的金属(一般为铝)图形。在完成金属图...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。