技术编号：75246
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及镀膜装置技术领域，具体地说是一种旋转镀膜辅助装置。依据洛伦兹力的原理，在存在正交的电磁场中，带电粒子的运动轨迹将会沿电场方向加速的同时，沿着磁力线方向螺旋前进，故磁控溅射时，正交的电磁场可以提高电子的效率，降低对介质气氛，如氩气压的要求，提高溅射的效率、沉积的速率，降低沉积原子的能量。因此在溅射镀膜技术中，磁控溅射因具有沉积速度高，工作气体压力低，对基质的加热升温作用小的独特优点，得到了大量的研究开发和应用。目前国内外研制开发的磁控溅射镀膜装置，通常设置的样品位均是针对平板状基质而设置，虽然有人设计了绕...
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