技术编号:7525283
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及ー种RF功率分配装置,并且更具体地,涉及ー种通过单一匹配网络将经过阻抗匹配的RF功率分配给多个电极或电极的多个位置的RF功率分配装置。背景技术容性稱合RF 等离子体装置(capacitively-coupled RF plasma device)包括布置在真空容器内部的上电极、源RF功率源(source RF power source)、用于保持基底的基底支撑部件以及偏压RF功率源(bias RF power source)0源RF功率源施加在上...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。