技术编号:7577473
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明相关于一种膜层以及其制造方法,以及,在此,特别地相关于一种具有皱折沟(corrugation grooves)以及抗黏组件(antistick element)的膜层,以及一种产生该膜层的方法,特别地是,本发明相关于一种用于一麦克风的膜层,举例而言,一硅麦克风(silicon microphone)。背景技术 一个由微机械方式形成之硅麦克风的中心组件乃是在其中所使用的膜层,而该膜层则适用于在声域(sound field)中进行振动,且此膜层的前提是,...
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