技术编号：8015473
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及一种等离子发生装置，特别是一种射频等离子发生装置。射频等离子体发生装置主要用于镀膜玻璃的前处理中清洁玻璃表面，还用于半导体器件的刻蚀、去胶等工艺中。经过洗涤的玻璃表面，在真空镀膜前，必须在真空状态下再次进行在线表面清洗。即在真空室中布置与匹配网络和射频电源连接的两个电极一个电极为接地的平板或真空壁，另一个电极为悬浮电极，玻璃基片置于其间。抽成真空后，充入几帕到几百帕压强的工作气体，接通射频电源后，两极间即产生辉光放电，从而使玻璃表面得到清洗。该装置由于存在边缘效应和高频集肤效应，使辉光放电边沿...
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