技术编号：8027513
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及一种加热器，尤其是涉及一种热容量小、升降温速度快、体积小功率大的应用于半导体领域的薄膜材料生长设备，用来对衬底进行加热的加热器。背景技术传统的用于半导体领域的薄膜材料生产设备中，对衬底进行加热的加热器升降温速率较慢，加热的均匀性难以保证，极限工作温度低，不宜在高温条件下连续工作，是由于其加热器的热容量大，炉丝排布不均匀，炉体结构不合理等原因造成的，这种加热器不适合在有急剧升温和快速降温要求的设备上应用。实用新型内容为解决上述问题，本实用新型的目的是提供一种热容量小、升降温速度快、体积小、功率大...
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