技术编号:8029903
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及物理气相沉积领域,在该领域中将原材料加热到导致气化并产生蒸气羽(vapor plume)的温度,以在基片表面形成薄膜。 发明背景技术 真空环境中的物理气相沉积是沉积薄的有机材料膜片的普遍使用的方法,例如在小分子OLED设备中。此方法众所周知,例如美国专利号2,447,789中的Barr和EP0982411中的Tanabe等人。当长时间保持在或接近所需的速度相关气化温度时,有机材料经常遭受降解。在高温下敏感有机材料的暴露可能导致分子结构的变化,并导致材料性质的连带变化。用于OLED设备的有机材料的气...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。