技术编号：8036719
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种射频传输系统，尤其涉及一种射频传输系统中采集电流的装置。 背景技术目前，等离子体被广泛应用于半导体器件的生产过程中。在等离子体刻蚀系统中，射 频电源向等离子腔体供电以产生等离子体。等离子体中含有大量的电子、离子、激发态的 原子、分子和自由基等活性粒子，这些活性粒子和置于腔体并曝露在等离子体环境下的硅 片相互作用，使硅片材料表面发生各种物理和化学反应，从而使材料表面性能发生变化， 完成硅片的刻蚀过程。在等离子体刻蚀过程中，腔室中的气体成分以及压力都在不断变化，因此，作为负载 的等离子的阻抗也在不...
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