技术编号：8043121
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种电极系统，其包括由电极材料形成的至少两个电极，该电极材料包含钼(Mo)或钨(W)或者钼或钨的合金以作为主要组分。本发明尤其涉及一种气体放电电极系统，例如EUV和/或软X射线辐射发生电极系统。背景技术在例如EUV光刻或计量领域中，需要发出远紫外线(EUV)和/或软X射线辐射(即，在l-20nm的波长区域)的光源。这些装置到目前为止为用于半导体工业中未来光刻工具的高功率光源的最有前景的候选物。在本领域中，如何使用高度电离的等离子体来在13. 5nm的波长有效地形成EUV光是已知的。从EUV发射目标...
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